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鋁靶材

鋁靶材是一種用于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜的關鍵材料。它具有卓越的導電性和導熱性，因此廣泛用于半導體工業(yè)、電子器件制造和光學涂層，用于制備導電薄膜、金屬層、反射鏡涂層且可應用于散熱解決方案。鋁靶材在多個高科技領域中得到廣泛應用，為各種應用提供了高質量的薄膜材料。

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產品詳情

品名

鋁靶材

成分

Al

外觀

銀白色,平板或者圓筒狀

純度(%)

99.999%

規(guī)格(mm)

Φ125×Φ171×L2342、W1130×L1200×T10、W200×L2650×T12

雜質≤ (ppm)

Fe

Ti

Si

Ni

Na

Cu

Mg

K

Mo

Cr

Sum

2

1

2

1

1

2

2

2

1

1

10